Nueva alternativa de purificación de silicio

2003/09/01 Elhuyar Zientzia Iturria: Elhuyar aldizkaria

• Kimika

La tecnología de fabricación de chips podría dar un paso adelante en breve, ya que algunos químicos japoneses han mejorado su método de purificación del silicio. El silicio es un componente básico de los circuitos integrados, por lo que el nuevo método puede tener un gran impacto económico en la industria de chips.

El silicio se extrae del sílice, que se encuentra en la arena, es decir, es un elemento muy abundante en la naturaleza. Sin embargo, la extracción de silicio de la arena requiere temperaturas muy altas, lo que encarece el proceso.

Siguiendo la metodología habitual, primero hay que fundir el sílice, calentándolo hasta unos 1.700 ºC. Por el contrario, el método japonés de los químicos consiste en sumergir sílice sólida en el cloruro cálcico líquido, tras lo cual se procede a la licuefacción de esta sal, para lo cual basta con una temperatura de unos 850ºC. A partir de ahí, el proceso electrolítico convencional consiste en eliminar los iones de óxido de sílice de un electrodo metálico mediante la aplicación de una corriente adecuada, quedando el silicio puro.

El silicio purificado suele ser frágil, por lo que por el momento el método no es adecuado para "renovar" los chips oxidados, pero los científicos han propuesto muchas otras aplicaciones.